En los experimentos de difracción de rayos X (XRD), el uso de un sustrato de fondo cero-puede reducir significativamente la interferencia del propio sustrato a la señal de difracción de la muestra, lo que da como resultado patrones de difracción de mayor calidad.Selección de orientación del cristales uno de los factores principales para lograr un rendimiento en segundo plano-cero.
Principio fundamental
La selección de la orientación del cristal para sustratos de fondo cero-sigue un principio simple:Coloque el pico de difracción principal del sustrato de silicio fuera del rango de experimentos de escaneo 2θ comúnmente utilizado, evitando así interferencias con la señal de difracción de la propia muestra.
El rango de escaneo de los experimentos XRD de polvo convencionales se concentra principalmente en5 grados - 90 grados (2θ), por lo que es necesario seleccionar una orientación especial del cristal de modo que el pico de difracción característico del silicio aparezca fuera de este rango.
Orientaciones especiales de uso común
1. <510>Orientación
- Características de difracción: El pico de difracción principal del silicio aparece en un ángulo relativamente alto de 2θ, que excede el rango de escaneo comúnmente utilizado en los experimentos XRD convencionales. Por lo tanto, casi no aparecerá ningún pico de difracción del sustrato de silicio obvio en el rango de 5 grados a 90 grados.
- Ventajas: Excelente rendimiento de fondo cero-, actualmente la orientación de sustrato de fondo cero- más utilizada en la investigación científica.
- Aplicabilidad: Recomendado para la mayoría de los experimentos de XRD convencionales, especialmente XRD en polvo y pruebas de XRD de ángulo bajo-.
2. <511>Orientación
- Características de difracción: Similar a<510>, su pico de difracción característico también se encuentra fuera del rango experimental convencional y no causará interferencias significativas en la señal de muestra.
- Ventajas: También proporciona un excelente rendimiento en segundo plano-.
- Aplicabilidad: Otra opción convencional; algunos investigadores prefieren esta orientación según la configuración del instrumento o los hábitos experimentales.
¿Por qué las orientaciones convencionales no son adecuadas?
Las orientaciones de obleas de silicio más comunes en el mercado son<100>y<111>, pero no son adecuados para sustratos sin-fondo:
|
Orientación convencional |
Pico de difracción principal (2θ) |
Problema |
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<100> |
Pico de Si(400) ~69 grados |
Cae exactamente dentro del rango de prueba comúnmente utilizado, lo que produce un fuerte pico de sustrato que interfiere seriamente con la señal de la muestra. |
|
<111> |
Pico de Si(111) ~28 grados |
Situado en el centro del campo de pruebas convencional, la interferencia es aún más pronunciada |
Por lo tanto, aunque las orientaciones convencionales están disponibles, no se recomiendan en absoluto para experimentos XRD de fondo cero-.
Guía de selección de orientación
- Seleccionar según el rango de prueba: Si su experimento se centra principalmente en la región de-ángulo bajo (XRD de ángulo-pequeño), ambos<510>y<511>pueden satisfacer la demanda y ambos tienen cero-efectos de fondo.
- Seleccionar según el hábito personal: Diferentes laboratorios pueden tener hábitos de uso tradicionales. Ambas orientaciones son ampliamente aceptadas en el mundo académico y puedes elegir según tu propia experiencia.
- Personalización de lotes pequeños: No se pueden obtener orientaciones especiales del inventario convencional y requieren cortes personalizados. Admitimos la personalización en pequeños-lotes de ambos<510>y<511>orientaciones, con un pedido mínimo de 5 piezas.
Tabla resumen
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Orientación |
Rendimiento en segundo plano cero- |
Disponibilidad |
Recomendación |
|
<510> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
Personalizable |
🌟🌟🌟🌟🌟 |
|
<511> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
Personalizable |
🌟🌟🌟🌟 |
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<100> |
❌ |
En stock |
❌ |
|
<111> |
❌ |
En stock |
❌ |
Sobre nosotros
Ningbo Sibranch Microelectronics Technology Co., Ltd. puede personalizar y proporcionar<510>o<511>Orientación XRD cero-obleas de silicio con sustrato de fondo según los requisitos de la investigación. Admitimos tamaños, espesores y requisitos de tratamiento de superficies especiales, y aceptamos pedidos de lotes pequeños.
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